·本项目依托于我们在光刻机制造领域相关核心技术的经验和积累，自主研发了具有完全自主 知识产权的大行程超精密对准装置。掌握了大量程超精密测量，大行程柔性操控平台设计、精密控制与补偿、精密系统标定与集成等核心技术。突破了国内现有精密检测和精密驱动技术的极限，实 现了 2nm 以内动态跟踪精度，1nm 以内重复定位精度（亚纳米分辨率）、50Hz 以上动态跟踪带宽（系 统带宽远高于 50Hz），行程近百微米